针对中国半导体产业，日本出手了！

根据综合媒体证实，日本某光刻胶大厂已经执行美国“实体清单”的限制要求，对中国某家晶圆厂断供了KrF光刻胶。相对于光刻胶，大家可能会对光刻胶这个词有些陌生，没关系，接下来我先给大家科普一下光刻胶以及这玩意对半导体产业的重要性。

光刻胶，专业名称光致抗蚀剂，通过紫外光、X射线等的照射下，所溶后产生的“耐蚀剂刻薄膜材料”。在芯片制造的过程中，有接近一半的时间是花费在光刻上，该过程不仅需要用到光刻机，还需要在硅晶片上添加一层光刻胶。

这样的做法可以提升芯片的光刻的精度，等于光刻胶的质量越高，光刻的精度大概率越高。换而言之，即使你有最先进的光刻机，但没有好的光刻胶，光刻的精度也不会很高，最终制造出来的芯片也不会成为精度很高的高端芯片。基于此，光刻胶对半导体产业的重要性，已经不言而喻了！

那么问题来了，日本光刻胶大厂对我国断供光刻胶又会产生什么影响？通过刚才的介绍，相信大家已经认知到光刻胶的重要性，但不幸的是，因为光刻胶是芯片制造的核心耗材，技术壁垒很高，但我国在相关领域却一直处于劣势地位。

因为整体技术水平不行，在光刻胶领域我们只能高度依赖进口，但麻烦的是，光刻胶行业集中度很高，全世界五大厂商占据了全球87%的市场，其中日本的几家光刻胶公司市场份额高达72%，至于KrF以及ArF等高级别光刻胶，几乎完全被美日企业垄断！

另外，还有一个很重要的问题，光刻胶有一个致命缺点，就是无法长时间保存。一般情况下，保存时间在3个月到1年之内，大部分都需要在半年内使用，这种材料特性就注定了我们无法大量囤货。

这就意味着，现在美日两国开始对我们断供高端光刻胶，按照现有库存，最多一年后我们就会面临“无光刻胶”可用的情况，所以在1年时间内，我们的国产光刻胶必须杀出重围，实现国产替代。

最后一个问题，众多国产光刻胶厂家中，谁能脱颖而出担负重任？当前国内一直在布局技术突破的厂商有上海新阳、南大光电、苏州瑞红、北京科华以及徐州博康。

这几家厂商中，上海新阳是上市企业，实力雄厚，半导体领域的人才众多，具备杀出重围的可能性；另外，北京科华不容小觑，它是上市企业彤程新材旗下的控股子公司，并且还是一家专门研究光刻胶的厂商，我国第一条高端KrF光刻胶生产线、国内首支ArF干法光刻胶样品北京科华建设与开发出来的。

综上所述，我个人认为，哪怕美日两国对我国光刻胶领域实施全面制裁策略，但原本我们有一定底子，具备抗风险能力。因此，这场危机或许也是一个机遇，在外部巨大的压力下，我国光刻胶厂商背水一战，最终一定能够突破他们的封锁。