近日，日本正式宣布，将限制23项半导体设备出货，5月正式颁布禁令，7月开始生效。

据该清单显示，包括3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备、1项测试设备均被限制出口。

日本这次可谓全面封锁，上述设备或卡住覆膜、光刻机胶涂布、光掩膜制造光刻机、蚀刻、清洗、晶圆检测等前道工序，几乎涉及了整个生产流程。

在此之前，日本与我国保持着良好的对外贸易关系，对华出口的设备不仅是光刻机，还有KrF光刻胶。

简言之，在中国半导体的发展历程中，日本扮演了重要的角色，这是因为日本尼康、佳能不像荷兰ASML那样拥有庞大的光刻机市场，所以中企客户对他们而言极为重要，但此次日本宣布23项禁令后，无异于向大陆撕破了脸，或彻底放弃中国大陆市场。

且在宣布禁令之前，日本已经选好了退路，首相岸田文雄访问印度，积极向印度开展半导体相关的友好合，因为有消息称，印度要打造代替中国的半导体聚集地。

在访问印度期间，岸田文雄多次强调，印度是日本和整个印太地区必不可少的合作伙伴，在接下来的7年里，日本将投资近10万亿日元。

且据台湾《关键时刻》披露，拜登正在与荷兰ASML商讨进一步限制光刻机出货一事，或让大陆半导体倒退10年。如此一来，不仅是单一光刻设备，ASML全系列DUV光刻机都将会被禁售。

要知道，国产光刻机的水平在90nm制程，中芯国际在2013年的时候可以生产45nm芯片，若真让大陆代工水平停留在90nm，已经不止倒退10年了。

对此外媒表示，芯片战结局已经愈发清晰了，中国芯输了！日本全面限制光刻机后，ASML的封锁只会更加严格，上海微电子90nm光刻机翻不起多大的浪花。

外媒这一分析不无道理，尽管在梁梦孟松的带领下，中芯国际的代工水平突飞猛进，从90nm迅速突破至14nm，但7nm及更先进的工艺却仍未掌握，这还是使用ASML DUV光刻机的结果，若采用国产光刻机，28nm制程都难突破。

难道中国芯真就这样输了？无数中企、高校、研究所的努力都白费了吗？

实际上并非如此，中国芯还未输，芯片博弈的结局未可知，别忘了中国还有量子芯片。

据悉，我国第一条量子芯片生产线已经搭建完毕，事实证明，量子芯片的制造过程无需使用EUV光刻机，且量子芯片较传统硅基芯片的性能理论上可以提高百倍、千倍。

因此，量子芯片成为我国绕开高端光刻机的“杀手锏”，若将其发扬光大，使其能在更多场景应用，那么大陆半导体将有机会彻底摆脱“卡脖子”难题。

综上所述，我国虽然掌握了量子芯片技术，但从整体水平上来看仍然落后美国，抓紧关键技术的研发，攻克核心技术难题，才是当下首要目标。

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