周末继续充电→半导体设备
你方唱罢我方登场,A股的精彩还在进行中!
继数字经济、人工智能之后,周五半导体接力了领涨大旗,完成“牛夫人”向“小甜甜”的蜕变,现在还在“蜜月期”。
王者回归?半导体板块再度领涨市场,引起一片沸腾。
周五概念涨幅榜
北方华创的一纸公告,瞬间点燃了二级市场半导体的热情,作为国产半导体设备明星的北方华创,超预期的业绩,说明半导体产业链的复苏,今天为大家盘点一下半导体设备
上周末一篇解读了半导体及集成电路产业链,详情链接如下:https://www.jiuyangongshe.com/h5/article/c6cv8svpqj深度剖析半导体、集成电路产业链《附股》先通过一个图回顾下半导体设备在整个产业链中的位置半导体产业链
继2020年之后,中国在2021年第二次成为半导体设备的最大市场,销售额增长58%,达到296亿美元,占据全球规模比例高达28.9%。
半导体设备行业整体市场集中度较高,话语权主要掌握在美国、日本和欧洲企业手中,2021全球前六大企业占据近7成市场份额。
如今,中国半导体设备销售规模不断增长,但国内自主研发制造半导体设备仍处于行业初期,与国外先进水平存在一定差距,未来布局研制国产半导体设备势在必行。
动荡时刻!方显英雄本色!
我们国内的半导体处于外围的拦截中,美国联合众小弟时不时出一些“幺蛾子”,跳梁小丑而已,不过分轻视,但也不足为惧。
先是卡终端芯片出口(华为不能买芯片)
后是卡中游芯片代工(华为不能找台积电加工芯片)
最后卡上游芯片设备(国内厂商不能买先进光刻机)
沿着产业链不断进行围追堵截
前段时间,国内大基金持续减持,也引起了市场的担忧。
一片“腥风血雨”中,半导体依旧傲然而立,周五直接领涨两市,英雄本色尽显。
半导体设备零部件产业链1、半导体设备—半导体产业的基石
半导体设备零部件的参数较高,对精度、强度、清洁度、抗腐蚀、电子特性、电磁特性复合要求较高,属于“既要...还要...”类型,生产工艺复杂,设计精密机械制造、工程材料、表面处理特种工艺等多个领域和科学,是半导体设备核心技术的直接保障。
由于半导体设备工艺复杂,种类较多,因此零部件种类较多。比如光刻机,被认为是世界上最复杂的设备之一,最先进的光刻机使用超过10万个零部件。
光刻机半导体工序流程复杂,涉及环节较多,按照不同制造环节,使用的半导体设备不同整个产业链流程包括:
硅片→表面清洗→氧化→涂光刻胶→光刻→显影→刻蚀→光刻胶去处→离子注入→气象沉积→原子层沉积→化学机械抛光→金属溅射。
具体的半导体设备主要是光刻机、刻蚀设备、薄膜设备、清洗设备、过程控制、CMP设备等。
资料来源:广发证券发展研究中心
(1)去胶设备
目前去胶设备工艺以干法去胶为主。
2021年去胶设备全球市场空间为7亿美元,国内市场空间为2亿美元。
国产化率74%,屹唐股份、盛美上海等国产
(2)清洗设备
清洗掉晶圆片表面的污染物,获得所需洁净表面的工艺设备,在各制程前后均需使用。
2021年清洗设备全球市场空间达到42亿美元,国内市场达14亿美元,整个行业集中度较高,目前我国半导体清洗设备的国产化率为25%。
盛美上海中标设备数量国产最多,仅次于日本迪恩士;
(3)刻蚀设备
刻蚀是利用化学、物理或者化学物理结合的方法有选择的去处光刻胶开口下方的材料,复杂程度比较高。2021年全球刻蚀设备市场空间为2000亿美元,主要被LamResearch,TEL,AMAT等三巨头主导市场,国内市场空间为58亿美元,国产化率22%
刻蚀设备方面,中微公司、北方华创、屹唐股份分列国内前三;
中微公司工艺覆盖范围相对较广,主力出货类型为CCP,近期ICP逐步发力;
北方华创主要面向金属、硅等导体刻蚀为主;
屹唐股份主要面向介质刻蚀;
(4)化学机械抛光(CMP设备)
化学机械抛光设备工艺复杂,研制难度较大,是半导体制造流程中使用的主要设备之一,在超大规模集成电路中有广泛应用。
2021年全球市场空间为28亿美元,AMAT和日本荏原合占全球90%以上市场份额。
目前已经有国内企业打破国内空白。
国产化率23%,华海清科为国内细分龙头
资料来源于网络
(5)热处理/氧化扩散设备
氧化是通过高温热出来,在硅片表面发生化学反应形成氧化膜;
扩散是利用热扩散原理将杂质元素按工艺要求掺入衬底中。
2021年全球市场规模达20亿美元,AMAT垄断近70%的份额。
国产化率28%;
北方华创优势较为明显,其相关设备主要以各类氧化炉、退火炉、合金炉等为主;
除北方华创外,屹唐股份、盛美上海等公司亦有相关炉管产品;
上海微电子面向IGBT等应用开发了激光退火设备,但与炉管设备有所区别
(6)薄膜沉积设备
主要是用于沉淀物质,在设备市场中占比较高,主要包括PVD、CVD和ALD三类,其中ALD是产业技术发展趋势。
2021年全球市场空间为190亿美元,国内市场空间为50亿美元,国产化率达到7%。
拓荆科技主要为PECVD,北方华创主要为PVD,盛美上海涉及电镀设备
三家厂商均是对应细分设备(PECVD、PVD、电镀)领域的国内龙头,产业地位突出。
中微公司等企业目前也在布局薄膜沉积设备领域
资料来源:国盛证券研究所(7)涂胶显影设备
是配合光刻胶工作的核心工艺设备,2021年全球市场规模达34亿美元,长期被TEL垄断,国产化率为2%,处于较低水平,国产化提升亟待加速。
芯源微实现国产零突破
(8)离子注入设备
2021年全球市场规模为22亿美元,被应用材料、Axcelis垄断,国产设备仍相对空缺处于快速起步期,国产化率仅为2%。
国产离子注入机的发展处于起步阶段,离子注入机国产化依赖于万业企业(凯世通)和中科信。
(9)光刻设备
光刻机是芯片制造与光刻胶研发中的核心工艺设备,2021年全球市场份额高达231亿美元,ASML市占率达75%,是全球唯一销售高端光刻机-EUV的厂商。
国内市场规模达67亿美元,但国产化率仍接近于零,极大程度依赖海外光刻设备。
阿斯麦绝对垄断,上海微实现国产零突破;
整个人类社会的结晶
(10)过程控制设备
贯穿于集成电路领域生产过程的质量控制环节,检测和量测环节贯穿制造全过程,是保证芯片生产良品率非常关键的环节。
2021年全球市场规模为93亿美元,竞争格局相对集中,全球范围内主要检测和量测设备企业包括KLA、AMAT、日立等。
国内设备国产化率较低,仅为2%左右。
中科飞测、精测半导体、睿励科学仪器属于国内布局领先企业;
中科飞测主要产品为光学表面三维形貌量测设备等光学检测设备,精测半导体、睿励科学仪器主要产品均为膜厚量测设备;2、半导体设备上市公司梳理
(1)清洗设备
盛美上海:公司主要产品为半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备。
北方华创:公司主要产品有刻蚀机、PVD、氧化扩散设备、清洗机等。
至纯科技:国内高纯工艺系统及半导体装备领域主流合格供应商。
(2)氧化设备
屹唐股份:待上市。
北方华创:国内主流高端电子工艺装备供应商。
(3)光刻设备
上海微电子:未上市
(4)涂光显影设备
芯源微:产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。
(5)刻蚀设备
屹唐股份:待上市。
北方华创:国内主流高端电子工艺装备供应商。
中微公司:公司产品聚焦离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备。
(6)去胶设备
屹唐股份:待上市。
北方华创:国内主流高端电子工艺装备供应商。
(7)离子注入设备
万业企业:旗下的凯世通制造的IC离子注入机迎来商业客户及多款设备订单的重大突破。
(8)CMP设备
华海清科:华海清科28nm及以上制程的主要CMP设备与国际龙头已不存在明显技术差距。
(9)过程控制设备
上海睿励:未上市
中科飞测:待上市。
(10)薄膜沉积设备
拓荆科技主要为PECVD
北方华创主要为PVD
盛美上海涉及电镀设备
重点提示:任何逻辑,均需要结合大盘和板块的走势选择介入、退出的时机。
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