在2月以来的震荡行情中，有一个相对陌生的概念表现却比较突出，走出了一波明显的结构性行情，它就是“光刻胶”！而在最近的新闻中，“光刻胶”露面的次数也不少——5月23日日本经济产业省发布出口贸易管制令征求意见稿结果，明确对6大类23项半导体设备限制出口，具体为3项清洗设备、11项成膜设备、1项热处理设备、4项曝光设备、3项蚀刻设备、1项测试设备。

业内分析称，“日本此次禁运的23种半导体设备中，热处理、前道涂胶显影设备、清洗、检测等设备均有企业推出符合市场要求的产品，唯独国产高端光刻胶属于空白领域，在此背景下，国产半导体产业链正谋求合力突破高端光刻胶封锁。”（上述参考：金融界，2023.06.06）

很明显，这又是「国产替代中一个很重要的细分赛道」。究竟什么是光刻胶？在国产替代中又占据着什么样的位置？今天我们就来聊聊这个新概念～

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光刻胶、光刻与芯片

光刻胶又称“光致抗蚀剂”，是一种对光敏感的混合液体。光刻胶可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案，因此被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。

是不是感觉比较专业？非专业人士听听就过了，大家只要知道两件事就行——

一是，光刻是芯片制造所需要的关键步骤。从最早诞生于电路设计师的图纸中，到送去半导体车间经由光刻机反复光刻，中间经过数百道工艺的层层打磨，一颗崭新的芯片才正式诞生，在整个芯片制造过程中可能需要进行数十次的光刻。光刻工艺成本占到整个芯片制造工艺大约是35%，耗时约占整个芯片生产环节的40%-50%。简单概括就是，光刻的时间成本和制造成本都占据了芯片制造的“大头”。（数据来源：中科院半导体所，2020.11.11）

二是，光刻胶是光刻工艺中不可或缺的核心材料，在半导体制造环节中有着重要作用。光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片的性能越好，而光刻胶贯穿半导体光刻工艺中涂胶、曝光+显影、刻蚀、清洗等主要流程，所以光刻胶的质量直接决定了半导体产品的质量。尤其是近年来半导体制程的提升，对光刻胶质量提出了更高要求，前几年中国台积电就曾因为光刻胶质量问题报废了10万片晶圆。因此，光刻胶又被誉为“半导体材料皇冠上的明珠”。（数据来源：金融界，2023.06.06）

由此我们可以得出两个结论：第一，光刻在芯片的制造过程中至关重要，而光刻胶是光刻工艺的核心材料，它的质量和性能会直接影响到集成电路制造过程中的质量和性能；第二，芯片行业的快速发展离不开光刻工艺的发展，光刻工艺则离不开光刻胶这些关键材料的研发迭代。（上述参考：招商证券，2021.08.06；证券之星，2021.06.02）

02

国产替代迎来良机

了解了光刻胶的重要性，接下来咱们看看一开始提到的那个关键词：国产替代。

为什么光刻胶行业的国产替代迫在眉睫呢？

第一个原因，目前全球光刻胶市场被日本JSR等五家龙头企业所垄断，它们占据了全球光刻胶市场87%的份额，日本不仅手握全球七成以上的光刻胶专利，而且还具有完整的光刻胶生产链。相比之下，中国光刻胶的专利储备量仅占全球光刻胶专利总量的7%。（数据来源：国海证券，2022.08.26；金融界，2023.06.06）

第二个原因咱们刚刚聊过，光刻胶的质量直接决定了半导体产品的质量，但高端光刻胶市场日本处于绝对垄断地位，我国光刻胶生产主要集中在PCB光刻胶等中低端产品，其中7nm及更先进制程光刻胶的研发基本处于空白阶段。（参考来源：国海证券，2022.08.26）

在这种情况下，光刻胶尤其是高端光刻胶的国产替代迫在眉睫。国外断供风险升级推动中国半导体国产化率提升，国内企业积极研发布局，力争在高端光刻胶领域突破海外垄断，这也为国产替代提供了良机。据统计，在2016-2021年的五年间，全球晶圆制造市场规模由652亿美元提升至1101亿美元，CAGR为11.05%，同期中国晶圆制造市场规模由49.05亿美元提升至115.65亿美元，达到15.36%，行业增速高于全球。（数据来源：太平洋证券，2023.04.18；本文不作个股推荐）

伴随晶圆制造规模持续提升，中国有望承接半导体光刻胶产业链转移，感兴趣的小伙伴可以多多关注相关领域机会～

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