随着半导体市场的增长，纯度和精度的标准变得越来越严格。半导体制造质量的决定因素之一是工艺中使用的气体。这些气体在制造过程中发挥着许多作用，包括：

精密过程控制

污染预防

冶金性能增强

为了有效地发挥这些作用，天然气供应和分配系统必须高效。半导体制造中使用的气体处理系统的设计必须得到坚固的组件和定制组件的支持，以保证半导体的可靠和高质量生产。

半导体制造中使用的气体

制造半导体的过程需要在不同阶段使用不同的气体，

虽然氮气、氢气、氩气和氦气等常见气体可以以其纯净形式使用，但某些工艺可能需要专门的混合物。硅烷或硅氧烷、六氟化物、卤化物和碳氢化合物是半导体制造中使用的几种特种气体。在这些气体中，许多气体可能是危险的或高反应性的，这给气体系统的组件选择和设计带来了挑战。

这里有一些例子：

由于原子尺寸和重量较小，氢气和氦气很容易从管道和配件系统中泄漏。

硅烷高度易燃，在空气中可自燃（自燃）。

在沉积、蚀刻和腔室清洁阶段使用的二氟化氮在泄漏到环境中时会成为一种有效的温室气体。

氟化氢（蚀刻气体）对金属管道具有很强的腐蚀性。

三甲基镓和氨可能很难处理——它们的温度和压力要求的微小波动都会影响沉积过程。

在系统设计过程中，控制工艺条件以尽量减少这些气体的负面影响必须是首要任务。在构建过程中，使用AFK隔膜阀等最高质量的组件也同样重要。

应对系统设计挑战

半导体级气体在大多数情况下都是高纯度的，并在制造过程的不同阶段（例如蚀刻和沉积气体）提供惰性条件或增强反应。此类气体的泄漏或污染可能会产生负面影响。因此，对于所使用的系统组件来说，具有密封性和耐腐蚀性以及光滑的表面处理（电解抛光）至关重要，以确保不存在污染的可能性，并且可以保持极高的清洁度。

此外，这些气体中的一些可以被加热或冷却以达到期望的工艺条件。绝缘良好的组件可以确保温度控制，这对于最终产品的高效性能至关重要。

从源入口到使用点，AFK的各种组件支持半导体洁净室和真空室所需的超高纯度、温度、压力和流量控制。

半导体工厂中采用优质组件的设计系统

优质元件和设计优化的作用对于半导体的精确控制和安全制造至关重要。使用的组件需要坚固且无泄漏，以符合不同制造阶段所需的不同工艺条件。AFK的高品质阀门、接头、调压阀、管道和密封支架具有以下特点：

超高纯度

无泄漏密封

温控保温

压力控制

耐腐蚀性能

电解抛光处理